濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制 器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

　　信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)：隨著IT 產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,世界對(duì)記錄介質(zhì)的需 求量越來(lái)越大,記錄介質(zhì)用靶材研究與生產(chǎn)成為一大熱點(diǎn)。在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,使用濺射靶材制備的 相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤(pán)、磁頭、光盤(pán)等。制造這些數(shù)據(jù) 存儲(chǔ)產(chǎn)品,需要使用具有特殊結(jié)晶性與特殊成分的高品質(zhì)靶材,常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀 有金屬、介質(zhì)材料等。

　　集成電路產(chǎn)業(yè)：集成電路用靶材在全球靶材市場(chǎng)占較大份額, 其濺射產(chǎn)品主要包括電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤(pán)掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的元 件,而電阻薄膜用靶材中Ni - Cr 合金的用量很大。