磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近幾十年的發(fā)展中，大家逐漸采用永久磁鐵，很少用線圈磁鐵。

　　中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當(dāng)陽極,而中頻濺射是成對(duì)的,筒體是否參加必須視整體設(shè)計(jì)而定,與整個(gè)系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關(guān),參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度。

　　中頻濺射主要技術(shù)在于電源的設(shè)計(jì)與應(yīng)用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點(diǎn),首先應(yīng)考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果。

　　中頻的靶材用的對(duì)靶,濺射靶材有的用到三對(duì).靶都是比較大，就中頻而言,現(xiàn)在用的多的都是鍍一些金屬的工件.這樣的真空爐一般都做的比較大,可以放下很多任務(wù)件,鍍出來的膜層也更加的致密.