真空濺射靶材的信息介紹，幫助大家更好的了解靶材行業(yè)的知識。
靶材技術指標：純 度：3-4 N 主要成分：ZnO：Al2O3= 97:3 [可根據(jù)用戶要求調(diào)整Al2O3摻雜比 (0-4) wt%] 相對密度：d≥ 98% 理論密度：ρ= 5.6 g?cm-3 實際密度：ρ≥ 5.5 g?cm-3 致密性均一：從橫斷面看無白點或大顆粒 2.鍍膜性能：方塊電阻：膜厚900 nm左右時，方阻≤ 10Ω/□ 電 阻 率：ρ≤ 9×10-4 Ω?cm 可見光透過率：T≥ 80% 3.濺射功率密度：目前國內(nèi)鍍膜設備適用功率3-4 w?cm -2，在設備冷卻系統(tǒng)好的情況下，最高功率可達10 w?cm -2 4.可生產(chǎn)最大尺寸(mm)：最大模具規(guī)格：L×W=334 ×272，現(xiàn)有L×W×H=330×135×12，160×135×12,160×135×9三種規(guī)格，厚度可根據(jù)客戶要求生產(chǎn)。
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